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真空镀膜磁控溅射常见知识@@
发布时间@@:2021-08-25 浏览@@:59 次@@

  直流溅射@@(DC Magnetron Sputtering)、射频溅射@@(RF Magnetron Sputtering)、脉冲溅射@@(PulsedMagnetro n Sp uttering)和中频溅射@@(Medium Fre2quency Magnetro n Sp uttering)

  反应溅射是在溅射系统里的惰性气体气氛中@@,通入一定比例的反应气体@@,通常用作反应气体的主要是氧气和氮气@@。

  直流溅射@@方法用于被溅射材料为导电材料的溅射和反应溅射镀膜中@@,其工艺设备@@简单@@,有较高的溅射速率@@。

  中频交流磁控溅射在单个阴极靶系统中@@,与脉冲磁控溅射有同样的释放电荷@@、防止打弧作用@@。中频交流溅射技术还应用于孪生靶@@(Twin2Mag)溅射系统中@@,中频交流孪生靶溅射是将中频交流电源的两个输出端@@,分别接到闭合磁场非平衡溅射双靶的各自阴极上@@,因而在双靶上分别获得相位相反的交流电压@@,一对磁控溅射靶则交替成为阴极和阳极@@。

  孪生靶溅射技术大大提高磁控溅射运行的稳定性@@,可避免被毒化的靶面产生电荷积累@@,引起靶面电弧@@打火以及阳极消失的问题@@,溅射速率高@@,为化合物薄膜的工业化大规模生产奠定基础@@。

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